海德漢敞開式直線光柵尺
敞開式直線光柵尺設計用于對測量精度要求*的機床和系統(tǒng)。
典型應用包括：
半導體業(yè)的測量和生產(chǎn)設備
PCB電路板組裝機
超高精度機床
高精度機床
測量機和比較儀，測量顯微鏡和其它精密測量設備
直驅(qū)電機
| 系列 | 說明 |
|---|---|
| LIC | LIC敞開式直線光柵尺能夠?qū)π谐踢_28 m和高速運動進行絕對位置測量。其尺寸和安裝方式與LIDA 400相同。 |
| 系列 | 說明 |
|---|---|
| LIP 200 | LIP 211和LIP 291增量式直線光柵尺輸出位置值的位置信息。正弦掃描信號在讀數(shù)頭中被高倍頻細分且其計數(shù)功能將細分的信號轉(zhuǎn)換成位置值。與所有增量式編碼器一樣，借助參考點確定絕對原點。 |
| 系列 | 說明 |
|---|---|
| LIP | 超高精度 LIP敞開式直線光柵尺擁有極小的測量步距，*的精度和重復精度。掃描方式為干涉掃描，測量基準為DIADUR相位光柵。 |
| LIF | 高精度 LIF敞開式直線光柵尺的測量基準是SUPRADUR工藝制造的玻璃基體光柵，采用干涉掃描方法。特點是精度高和重復精度高，安裝特別簡單，有限位開關(guān)和回零軌。特殊型號的LIF 481 V可用于10–7 bar的真空環(huán)境中（參見其單獨“產(chǎn)品信息"）。 |
| LIDA | 高速運動和大測量長度 LIDA敞開式直線光柵尺特別適合運動速度達10 m/s的高速運動應用，支持多種安裝方式，安裝特別簡單。根據(jù)相應應用要求，METALLUR光柵的基體可為鋼帶，玻璃或玻璃陶瓷。也有限位開關(guān)。 |
| PP | 二維坐標測量 PP二維編碼器的測量基準是平面DIADUR工藝制造的相位光柵，采用干涉掃描方法。用于測量平面中位置。 |
| LIP/LIF | 高真空和超高真空技術(shù) 我們的標準編碼器適用于低真空或中等真空應用。高真空或超高真空應用的光柵尺需要滿足一些特殊要求。采用的設計和材質(zhì)必須滿足應用要求。更多信息，參見“真空中應用的直線光柵尺"產(chǎn)品信息。 以下敞開式直線光柵尺專用于高真空或超高真空應用環(huán)境。 • 高真空：LIP 481 V和LIF 481 V |
| 型號 | 基線誤差 | 基體和安裝方式 | 細分誤差 | 測量長度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 精度等級 | 局部 | ||||
| LIC 4113 LIC 4193 | ± 3 μm ± 5 μm | ≤ ± 0.275 μm/ 10 mm | 玻璃或玻璃陶瓷光柵尺，嵌入在安裝面中 | ± 20 nm | 240 mm 至3040 mm |
| LIC 4115 LIC 4195 | ± 5 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并預緊 | ± 20 nm | 140 mm 至 28440 mm |
| LIC 4117 LIC 4197 | ± 3 μm ± 5 μm ± 15 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并固定 | ± 20 nm | 240 mm 至 6040 mm |
| LIC 4119 LIC 4199 | ± 3 μm ± 15 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上 | ± 20 nm | 70 mm 至 1020 mm |
| LIC 4119 FS | ± 3 μm ± 15 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上 | ± 20 nm | 70 mm 至 1820 mm |
| 型號 | 基線誤差 | 基體和安裝方式 | 細分誤差 | 測量長度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 精度等級 | 局部 | ||||
| LIC 2117 LIC 2197 | ± 15 μm | 鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并固定 | ± 2 μm | 120 mm 至 3020 mm | |
| LIC 2119 LIC 2199 | ± 15 μm | 鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上 | ± 2 μm | 120 mm 至 3020 mm | |
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